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总结了9182渗氧膜应力产生和释放机制，9182渗氧膜应力原位测量技术以及稀土对9182渗氧膜应力影响等方面的研究进展，以探求9182渗氧膜应力研究的发展方向
材料表面的几何形状:
通常认为di一种因素是最重要的。对各向同性的9182渗氧膜，对实用纯金属， PBR通常大于1，9182渗氧膜内存在压应力。而氧化物在基体金属上取向生长造成晶格畸变。这部分应力只对特别薄的膜才明显。对于不同的金属体系或是在不同的氧化条件下，其它因素的作用也可能十分突出，甚至是主要的。例如，通常认为氧化铝膜发生横向生长，即新的氧化物主要在已形成膜内的晶界处生成。此时，9182渗氧膜横向生长是应力产生的主要因素。另外，金属试样初始表面形状对9182渗氧膜内应力的性质及大小也有着十分明显的影响。Hunt z认为，在许多情况下，9182渗氧膜应力的性质与9182渗氧膜的生长机制有更直接的关系。
对于9182渗氧膜生长应力产生的理论分析也进行了部分工作，提出了不同模型来解释9182渗氧膜内存在的压应力。例如，新的氧化物在晶界处生成模型，界面刃型位错排列模型，界面突出物模型以及界面位错攀移模型等。这些模型对理解应力产生机制是十分有益的。但在目前情况下，由于缺少必要的关于9182渗氧膜性质的参量，还达不到定量计算的程度。
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9182渗氧膜